西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台
一、产品概述
西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台是一款面向精密定位与微纳加工应用的高精度对准与位移平台，通常采用 XY 平移与 θ 旋转组合结构，适用于晶圆、基片、光学元件及微小样品的精确对位操作。该类对位台广泛应用于科研实验室、半导体工艺、光学装调及精密制造领域，能够满足微米级甚至亚微米级的重复定位与对准需求。
一、产品概述
西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台是一款面向精密定位与微纳加工应用的高精度对准与位移平台，通常采用 XY 平移与 θ 旋转组合结构，适用于晶圆、基片、光学元件及微小样品的精确对位操作。该类对位台广泛应用于科研实验室、半导体工艺、光学装调及精密制造领域，能够满足微米级甚至亚微米级的重复定位与对准需求。
二、功能特点
1. 高精度 XY 平移与旋转对位结构；
2. 行程覆盖 120 mm 级别，兼顾大范围移动与精细调节；
3. 支持手动微分、电动或闭环控制形式；
4. 结构紧凑、刚性高，适合高稳定性实验环境；
5. 可集成显微镜、相机或激光对准系统使用；
6. 兼容多种样品夹具与真空吸附模块。
三、应用场景与领域
1. 半导体与微纳加工：晶圆对位、光刻前对准、探针测试定位；
2. 光学工程：透镜、棱镜、光纤器件的精密装调；
3. 二维材料与新材料研究：样品转移、异质结构对准；
4. 精密检测与计量：显微成像系统中的样品精确定位；
5. 教学与科研实验：高校及研究机构的精密实验平台。
四、技术优势
1. 高重复定位精度：采用精密丝杆或直线导轨结构，确保稳定可靠的定位性能；
2. 优异的机械稳定性：高刚性材料与优化结构设计，有效降低振动与漂移；
3. 操作灵活：支持多种驱动与控制方式，适应不同实验需求；
4. 扩展性强：可根据应用需求定制旋转轴、Z 轴或真空模块；
5. 长期可靠性：适合长时间连续工作，维护成本低。
五、典型型号及应用案例
型号 | 结构形式 | 特点 | 应用案例 |
M（手动） | •XY 平移 + θ 旋转组合 •微分头或精密丝杆手动调节 •无电机、无控制器需求 | •操作直观，调节精细 •结构简单、稳定性高 •适合对位频率不高但精度要求明确的场景 | •显微镜样品对位：在金相显微镜、体视显微镜下进行样品位置微调 •光学元件装调：透镜、滤光片、反射镜的初始对准 •教学实验平台：高校基础光学与微纳实验教学 |
E（电动） | •XY 电动平移 + θ 手动或电动旋转 •电机驱动，支持程序控制 | •可实现远程控制与自动定位 •对位效率高，重复性好 •易于集成至自动化系统 | •晶圆测试与检测平台：晶圆在探针测试或光学检测中的快速定位 •自动化光学装调系统：光学模组批量装调与一致性测试 •在线检测设备：搭配工业相机，实现自动视觉对准 |
EP（高精度电动对位台） | •XY 高分辨率电动平移 + 精密旋转轴 •可选闭环反馈结构 | •重复定位精度高 •回程误差小，适合亚微米级对准 •适用于高端科研与精密制造 | •二维材料转移对位：异质结、堆叠角度控制 •微纳光刻前对准：曝光前精细对位 •纳米器件制备实验：精密结构的对准与加工 |
V（高精度电动对位台） | •XYθ对位结构 + 真空吸附载物面 •可集成电动或手动驱动 | •样品固定稳定，不易滑移 •适合薄片、晶圆类样品 •提高对位过程中的安全性与一致性 | •晶圆级实验与加工：4–6 英寸晶圆对准 •薄膜样品转移：柔性基底、薄膜材料定位 •光学检测系统：减少样品位移带来的误差 |
C（定制扩展型对位台） | •XYθ基础结构 •可扩展 Z 轴、倾角轴、专用夹具 | •高度定制化 •可针对特定工艺需求设计 •易与其他精密平台组合使用 | •多轴精密装调平台：复杂光学系统装调 •科研专用实验装置：非标实验结构集成 •小型自动化工艺设备：多工位对位与转移 |
六、技术参数
X轴50mm，Y轴50mm
重复定位精度≤±2um
台面尺寸120*120/mm
主体材料及表面处理：铝合金，黑色阳极氧化
丝杆品牌：米思米精密滚珠丝杆
导轨品牌：米思米交叉滚子导轨
电机品牌：信浓
设备外观图
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