150kV 微焦点X射线源 UN-U150B

艾博纳微纳米科技（Abner） 自主研发的 UN-U150 150 kV 微焦点 X 射线源，面向高分辨率 X 射线成像、微结构无损检测及科研级材料表征应用。该产品采用高稳定电子光学设计与微焦点靶结构，在保证高穿透能力的同时，实现微米级空间分辨率，适用于 X-ray CT、微米/亚微米缺陷检测、半导体封装检测、材料内部结构分析 等高端应用场景。UN-U150 在结构可靠性、热稳定性与长期运行一致性方面进行了系统级优化，可作为 桌面式微焦点 CT 系统、在线检测系统及定制化 X 射线分析平台 的核心辐射源模块。

一、产品特点与优势

1. 150 kV 高电压平台，兼顾分辨率与穿透力

最高管电压 150 kV，适用于高密度材料及复杂结构样品；在保持微焦点尺寸的前提下，实现优异的成像对比度与信噪比；覆盖从低 Z 材料到中高 Z 合金、封装结构的多场景应用

2. 微焦点设计，支持高分辨率成像

采用精密电子束聚焦系统；焦点尺寸可达 微米级（μm 量级）；显著提升几何放大倍率下的空间分辨能力，适合微缺陷检测

3. 高稳定性电子光学系统

高压模块、灯丝供电与束流控制系统一体化设计；管电流波动小，长期运行重复性好；适合 CT 扫描等长时间连续工作场景

4. 高效散热与靶结构优化

靶材与散热结构协同设计；有效降低热漂移对焦点尺寸和束流稳定性的影响；提升 X 射线源寿命与运行可靠性

5. 模块化接口，系统集成友好

支持多种系统集成方式（CT、检测线、实验平台）；可与艾博纳自研 X 射线成像系统、精密运动平台深度适配；支持定制化接口与控制协议