E3-iFL 明暗场荧光成像显微镜（偏光）
微纳材料与器件研究的首要难点，就是在茫茫样品海洋中找到具有研究价值的目标样品，通常的研究手段就是金相显微镜、 AFM或者STM等等。其中STM优点是分辨率高，能够反馈更多微观形貌信息，但缺点是样品制备喷金或者电子束轰击都会对样品产 生损伤；AFM优点是操作便捷，可结合形貌、磁性、电势等多种表面观察，但缺点是探针耗材易损且扫描速度较慢。综合而言，还 是显微镜无损观察最适合样品的初步表征和快速筛选！
微纳材料与器件研究的首要难点，就是在茫茫样品海洋中找到具有研究价值的目标样品，通常的研究手段就是金相显微镜、 AFM或者STM等等。其中STM优点是分辨率高，能够反馈更多微观形貌信息，但缺点是样品制备喷金或者电子束轰击都会对样品产 生损伤；AFM优点是操作便捷，可结合形貌、磁性、电势等多种表面观察，但缺点是探针耗材易损且扫描速度较慢。综合而言，还 是显微镜无损观察最适合样品的初步表征和快速筛选！
E3-iFL明暗场荧光成像显微镜，同时配置明场观察白光LED光源和大功率385/450nm LED荧光成 像专用激发光源，可同时实现明场成像、暗场成像、偏光成像及荧光成像，可有效观察、辨析各类二维材料、量子点、钙钛矿、纳 米线、Micro-LED、长石/云母/石英等矿物及其他微纳材料与器件。最大可观察尺寸为2.23mm*1.24mm（5X物镜下）。滤光片采用了转轮形式安装，方便快速切换成像模式。其中，标配450nm LED荧光成像功能收集光谱范围为500-1000nm，可选择预装 385nm LED。
暗场观察的工作原理：暗场观察是利用中央遮光板或暗场聚光器，常用的是抛物面聚光器，使光源的中央光束被阻挡，仅允许光线倾斜地照射在观察 的样品上，样品遇光发生反射或散射，散射的光线投入物镜内。因此视野中的背景为黑色，能看到的是样品的轮廓，利用这种特殊 的观察手法带来的高对比度，面对样品背景条件不佳的情况可比普通明场能看到更多的样品细节，并清晰分辨样品不同层数的边缘 等。
荧光观察的工作原理：荧光观察是利用一定波长的光(通常是紫外光、蓝紫光)激发显微镜下标本内的荧光物质，使之发射荧光。E3-iEL采用大功率蓝光 LED（450nm/385nm），蓝光通过分束器反射，通过物镜聚焦在样品表面。样品发射的荧光和反射光通过滤光片组后，反射光被滤光片组阻挡，荧光信号进入相机成像。相机采用的是荧光成像制冷显微相机，搭载830万像素高灵敏度CMOS传感器，可做到长 时间曝光，曝光时间10ms—5min，拥有TE冷却结构，工作温度最低-10度。