西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台
一、产品概述
西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台是一款面向精密定位与微纳加工应用的高精度对准与位移平台，通常采用 XY 平移与 θ 旋转组合结构，适用于晶圆、基片、光学元件及微小样品的精确对位操作。该类对位台广泛应用于科研实验室、半导体工艺、光学装调及精密制造领域，能够满足微米级甚至亚微米级的重复定位与对准需求。
一、产品概述
西格玛光机OSMS-ABN二轴对位平台是一款面向精密定位与微纳加工应用的高精度对准与位移平台，通常采用 XY 平移与 θ 旋转组合结构，适用于晶圆、基片、光学元件及微小样品的精确对位操作。该类对位台广泛应用于科研实验室、半导体工艺、光学装调及精密制造领域，能够满足微米级甚至亚微米级的重复定位与对准需求。
二、功能特点
1. 高精度 XY 平移与旋转对位结构；
2. 行程覆盖 120 mm 级别，兼顾大范围移动与精细调节；
3. 支持手动微分、电动或闭环控制形式；
4. 结构紧凑、刚性高，适合高稳定性实验环境；
5. 可集成显微镜、相机或激光对准系统使用；
6. 兼容多种样品夹具与真空吸附模块。
三、应用场景与领域
1. 半导体与微纳加工：晶圆对位、光刻前对准、探针测试定位；
2. 光学工程：透镜、棱镜、光纤器件的精密装调；
3. 二维材料与新材料研究：样品转移、异质结构对准；
4. 精密检测与计量：显微成像系统中的样品精确定位；
5. 教学与科研实验：高校及研究机构的精密实验平台。
四、技术优势
1. 高重复定位精度：采用精密丝杆或直线导轨结构，确保稳定可靠的定位性能；
2. 优异的机械稳定性：高刚性材料与优化结构设计，有效降低振动与漂移；
3. 操作灵活：支持多种驱动与控制方式，适应不同实验需求；
4. 扩展性强：可根据应用需求定制旋转轴、Z 轴或真空模块；
5. 长期可靠性：适合长时间连续工作，维护成本低。